ANALIZA WŁASNOŚCI WARSTW CDS W ZALEŻNOŚCI OD PARAMETRÓW PROCESU WYTWARZANIA Z WYKORZYSTANIEM NAPYLANIA PLAZMOWEGO

W prezentowanym artykule, autorzy skupili się na analizie zmian wydajności ogniw fotowoltaicznych, których jednym z kluczowych składników jest CdS. Wykorzystując urządzenie do (napylania) sputteringu magnetronowego, autorzy podjęli próbę modyfikacji wybranych składników procesu nanoszenia warstw materiału. Celem wskazanego działania było zwiększenie wydajności ogniw, usprawnienie oraz obniżenie kosztów procesu produkcyjnego. Autorzy przebadali grupę wytworzonych przez siebie w różnych (wskazanych eksperymentem) warunkach ogniw, analizując ich wydajność w przypadku światła białego, wydajność względem długości fali oświetlającej oraz odnieśli otrzymane wyniki do zmian w topografii warstw CdS. Domniemywano, że podobnie jak w przypadku innych materiałów (autorzy we wcześniejszych pracach zajmowali się poprawą parametrów elektro-optycznych podłoży przewodzących), utrzymywanie procesu w możliwie wysokiej temperaturze spowoduje lepsze uporządkowanie struktury CdS a tym samym poprawę parametrów elektro-optycznych. Postanowiono zbadać, czy podobna zależność wpłynie na wydajność ogniwa fotowoltaicznego. Równolegle autorzy pracują nad technikami mającymi zmodyfikować topografię ogniw fotowoltaicznych w celu zwiększenia powierzchni czynnej. Postanowiono zatem zbadać przedstawione powyżej zagadnienia w możliwie najszerszy sposób.

Pełny tekst (pdf)

[1]  Posadowski W. M.; Pulsed magnetron sputtering of reactive compounds, Thin Solid Films, vol. 343-344, s. 85-89, 1999.

[2]  Mech K, Kowalik R., Żabiński P.; Cu thin films deposited by DC magnetron sputtering for contact surfaces on electronic components, Archives of Metallurgy and materials; vol. 56; 2011.

[3]  Grudniewski T, Lubańska Z., Czernik S.: Charakterystyka AFM cienkich warstw SnO₂ uzyskanych podczas sputteringu magnetronowego przy wybranych warunkach procesu. Czasopismo Inżynierii Lądowej, Środowiska i Architektury Architektury – Journal of Civil Engineering, Environment and Architecture, JCEEA, t. XXXII, z. 62 (2/15), 2015, s. 99-103, DOI:10.7862/rb.2015.40.

[4]  S. Gulkowski, E. Krawczak, J. Olchowik. Optimization of metallic precursor thickness ratio for CIGS solar cell prepared by magnetron sputtering process. Proceedings of 31^st European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition, Hamburg, Germany, s. 1330-1332.

[5]  M. Batzill, U. Diebold, The surface and materials science of thin oxide, Progress in Surface Science 79, s.47-154, 2005.

[6]  Kaczmarek D.: Modyfikacja wybranych właściwości cienkich warstw TiO₂, Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej, Wrocław 2008.

[7]  Takayuki I., Hiroaki M., Takashi I., Wide erosion nickel magnetron sputtering using an eccentrically rotating center magnet; Vacuum 83, s. 470-474, 2009.

[8]  Takayuki I., Target utilization of planar magnetron sputtering using a rotating tilted unbalanced yoke magnet, Vacuum 84, s. 339-347, 2010.